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一种生产铜始极片的电解液添加剂及使用方法

放大字体  缩小字体 发布日期:2009-05-08   作者:佚名
申请号/专利号: 200710303635本发明涉及一种生产铜始极片的电解液添加剂及使用方法,其特征在于该添加剂由按比例混合的安德特、明

申请号/专利号: 200710303635 本发明涉及一种生产始极片的电解液添加剂及使用方法,其特征在于该添加剂由按比例混合的安德特、明胶、硫脲、盐酸组成,其质量配比组成为安德特∶明胶∶硫脲∶HCl=1∶(3.27~4.31)∶(1.23~1.72)∶(0.13~0.19)。本方法的特点是产出的始极片化学成分杂质总和低,且物理表面光滑、结晶致密、薄厚均匀,经过联动机组加工后悬垂度较好,是一种能稳定并提高高纯阴极铜质量的始极片生产工艺技术。

申请日: 2007年12月20日
公开日: 2008年10月01日
授权公告日:
申请人/专利权人: 金川集团有限公司
申请人地址: 甘肃省金昌市金川路98号
发明设计人: 张强林;向天龙;蒲彦雄;肖银广;白凯;任智顺;王霞;张金清;刘军;赵秀花;张素霞;程霞霞;王文龙
专利代理机构: 中国有色金属工业专利中心
代理人: 李迎春
专利类型: 发明专利
分类号: C25C1/12;C25C7/00

以上信息仅供参考

 
 
 
 

 

 
 
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