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射频反应磁控溅射制备氮化铜薄膜

放大字体  缩小字体 发布日期：2010-06-12   作者：肖剑荣,徐 慧,刘小良,李燕峰,张鹏华,简献忠
　　使用射频反应磁控溅射法，在不同的射频功率和气体流量比下制备了氮化铜薄膜，并用X射线衍射仪和原子力显微镜对薄膜的结构进行表征。研究结果表明：薄膜呈现择优生长规律，由低气体流量比的Cu3N(111)晶面转向...
 
 
 
 
关键词： 氮化铜薄膜,晶体结构,光学带隙,电阻率 特别提示：本信息真实性未证实，仅供参考。请谨慎采用，风险自负。

 

 
 
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