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银基体上铜等离子体基离子注入层的成分分布

放大字体  缩小字体 发布日期：2010-06-09   作者：于伟东,夏立芳,马欣新,孙 跃,孙明仁
　　研究了银基体上铜等离子体基离子注入(CuPBII)层成分深度分布与试验工艺参数的关系。选择影响注入离子能量的脉冲偏压和注入剂量的不平衡磁控靶放电电流和靶基距作为试验参数，用X射线光电子谱(XPS)进行注入层...
 
 
 
 
关键词： 金属等离子体,等离子体基离子注入,成分深度分布,铜离子 特别提示：本信息真实性未证实，仅供参考。请谨慎采用，风险自负。

 

 
 
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