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弱碱性抛光液中铜化学机械抛光的电化学行为

放大字体  缩小字体 发布日期：2010-06-10   作者：胡岳华,何捍卫,黄可龙
　　在弱碱性介质里以铁氰化钾为钝化剂，对铜化学机械抛光技术(CMP)过程中的电化学行为进行了在线测试。考察了铜在有无铁氰化钾存在下的极化行为及铁氰化钾浓度对腐蚀电位的影响，研究了在不同压力下铜抛光前后的...
 
 
 
 
关键词： 铜,化学机械抛光,电化学行为 特别提示：本信息真实性未证实，仅供参考。请谨慎采用，风险自负。

 

 
 
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